Kristalline Silicium-Technologie

Das Fraunhofer ISE Labor- und Servicecenter Gelsenkirchen verfügt über eine komplette Pilotlinie zur Herstellung von mono- und multikristallinen Siliciumsolarzellen bis zu einer Größe von 156 mm x 156 mm.

Graphit-Trägerplatte der Durchlauf-Plasmaanlage.
© Fraunhofer ISE

Graphit-Trägerplatte der Durchlauf-Plasmaanlage bestückt mit 15 multi- und einer mono-kristallinen Siliciumscheibe nach der Beschichtung mit Siliciumnitrid.

Forschungsschwerpunkte:

  • Nachfahren und Optimierung von Durchlaufprozessen
  • Rückseitenpassivierung von Solarzellen
  • Niedertemperatur-Siebdruckprozesse


Dienstleistungen:

  • Substratcharakterisierung im Standardprozess
  • Charakterisierung von Solarzellen
  • Teilprozessierung von Solarzellen
  • Kontaminationskontrolle
  • Bestimmung von Diffusionsprofilen
  • Abscheidung von Siliciumnitrid und Siliciumoxid im Kundenauftrag
  • Ätzen von Silicium, Siliciumnitrid und Siliciumoxid im Kundenauftrag
  • Schnelle Responsezeiten